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真空鍍膜用鈦圓靶材

發(fā)布時間：2022-09-01 丨 瀏覽次數(shù)：470471

品 名：真空鍍膜用鈦靶材

常用材質(zhì)：

TA1  成分 99.7%

TA2  成分 99.5%

高純4N成分 99.99%

形狀：圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶

鈦靶材常見規(guī)格：

A.圓靶：

60/65/70/80/85/90/95/98/100/128(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)

B.板靶：

60/80/120(W)×6/8/12(T)×519/525/620(L) 

60-800(W)×6-40(T)×600-2000(L)

C.管靶：

0.1-30.0(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：

國內(nèi)：GB/T 16598，GB/T2965 等 

美標(biāo)：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348,MIL-T-9047.

產(chǎn) 地：陜西寶雞

材 質(zhì)：鈦及鈦合金

純 度：99.99%

制作工藝：真空磁懸浮熔煉 ，澆鑄成錠，熱機(jī)械處理和精密機(jī)械加工

鈦靶材應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛用于五金,裝飾,工具,陶瓷,高爾夫球頭等鍍膜行業(yè)。